Ke kuleana o ka sulfur hexafluoride i ka silicon nitride etching

He kinoea ʻo Sulfur hexafluoride me nā waiwai insulating maikaʻi loa a hoʻohana pinepine ʻia i nā mea hoʻopau arc voltage kiʻekiʻe a me nā mea hoʻololi, nā laina hoʻoili voltage kiʻekiʻe, nā mea hoʻololi, a pēlā aku. Eia nō naʻe, ma waho aʻe o kēia mau hana, hiki ke hoʻohana ʻia ka sulfur hexafluoride ma ke ʻano he mea hoʻoheheʻe uila. ʻO ka sulfur hexafluoride maʻemaʻe kiʻekiʻe o ka papa uila kahi mea hoʻoheheʻe uila kūpono, kahi i hoʻohana nui ʻia ma ke kahua o ka ʻenehana microelectronics. I kēia lā, e hoʻolauna ka mea hoʻoponopono kinoea kūikawā ʻo Niu Ruide ʻo Yueyue i ka hoʻohana ʻana o ka sulfur hexafluoride i ka silicon nitride etching a me ka mana o nā ʻano like ʻole.

Ke kūkākūkā nei mākou i ke kaʻina hana SF6 plasma etching SiNx, me ka hoʻololi ʻana i ka mana plasma, ka lakio kinoea o SF6/He a me ka hoʻohui ʻana i ke kinoea cationic O2, ke kūkākūkā nei i kona mana ma ka helu etching o ka papa pale element SiNx o TFT, a me ka hoʻohana ʻana i ka radiation plasma. Ke kālailai nei ka spectrometer i nā loli o ka nui o kēlā me kēia ʻano ma SF6/He, SF6/He/O2 plasma a me ka helu dissociation SF6, a ke ʻimi nei i ka pilina ma waena o ka loli o ka helu etching SiNx a me ka nui o nā ʻano plasma.

Ua ʻike ʻia nā haʻawina i ka wā e hoʻonui ʻia ai ka mana plasma, e piʻi aʻe ka nui o ke kahakaha ʻana; inā e hoʻonui ʻia ka nui o ke kahe o SF6 i loko o ka plasma, e piʻi aʻe ka nui o ka ʻātoma F a pili pono me ka nui o ke kahakaha ʻana. Eia kekahi, ma hope o ka hoʻohui ʻana i ke kinoea cationic O2 ma lalo o ka nui o ke kahe paʻa, e loaʻa ka hopena o ka hoʻonui ʻana i ka nui o ke kahakaha ʻana, akā ma lalo o nā lakio kahe O2/SF6 like ʻole, e loaʻa nā ʻano hana like ʻole, hiki ke puʻunaue ʻia i ʻekolu ʻāpana: (1) He liʻiliʻi loa ka lakio kahe O2/SF6, hiki iā O2 ke kōkua i ka hoʻokaʻawale ʻana o SF6, a ʻoi aku ka nui o ka helu kahakaha ʻana i kēia manawa ma mua o ka wā i hoʻohui ʻole ʻia ai ʻo O2. (2) Ke ʻoi aku ka nui o ka lakio kahe O2/SF6 ma mua o 0.2 i ka manawa e hoʻokokoke ana i ka 1, i kēia manawa, ma muli o ka nui o ka hoʻokaʻawale ʻana o SF6 e hana i nā ʻātoma F, ʻo ka nui o ke kahakaha ʻana ka mea kiʻekiʻe loa; akā i ka manawa like, ke piʻi nei nā ʻātoma O i loko o ka plasma a he maʻalahi ke hana iā SiOx a i ʻole SiNxO(yx) me ka ʻili kiʻiʻoniʻoni SiNx, a ʻo ka nui o ka piʻi ʻana o nā ʻātoma O, ʻoi aku ka paʻakikī o nā ʻātoma F no ka hopena etching. No laila, hoʻomaka ka wikiwiki o ka etching e lohi i ka wā e kokoke ana ka ratio O2/SF6 i 1. (3) Ke ʻoi aku ka nui o ka ratio O2/SF6 ma mua o 1, emi ka wikiwiki o ka etching. Ma muli o ka piʻi nui ʻana o O2, kuʻi nā ʻātoma F i hoʻokaʻawale ʻia me O2 a hana iā OF, kahi e hōʻemi ai i ka nui o nā ʻātoma F, e hopena ana i ka emi ʻana o ka wikiwiki o ka etching. Hiki ke ʻike ʻia mai kēia mea i ka wā e hoʻohui ʻia ai ʻo O2, aia ka ratio kahe o O2/SF6 ma waena o 0.2 a me 0.8, a hiki ke loaʻa ka wikiwiki etching maikaʻi loa.