Epitaxial (ulu)OIHANA GAIRED GAs

Ma kaʻoihana Semiconductor, e hoʻohanaʻia ka mīkini e ulu ai i hoʻokahi a iʻole nā'āpana e pili ana i ka waihona kālā e pili ana i keʻano o keʻano.

Hoʻohana maʻamau i nā gricon epitaxalal epitaxal i nā dichlorosillane, silicon tetrachloride aSilane. ^. Hoʻohana nuiʻia no ka hoʻoiho silicon Silitic, Silicon Movie Kaukaʻi,ʻo Silphidus Picture Firl Filver and Grick

ʻO ka waihona kālā Vemila (CVD) i huiʻia

ʻO CVD kahi ala e waiho ai i kekahi mau mea a me nā mea hoʻohui e nā mea e pono ai ka collatical e hoʻohana ana i nāʻano collatile e hoʻohana ana i nāʻano o keʻano o nā bellatile. Ke hilinaʻi nei i keʻano o ke kiʻiʻoniʻoni i hanaʻia,ʻo ka waihona kālā Vapor Chemical (CVD)ʻo ia hoʻi kaʻokoʻa.

DopingʻO keʻano hui

I ka hanaʻana o nā hana semiconnductors a me nā hoʻopiliʻana, ua kāpaeʻia nā mea hoʻopiʻi i nāʻano mea hoʻomakeʻawaʻia, nāʻano hana i hoʻomakeʻia ai keʻanoʻoi aku.

ʻO ka hapa nui a me nā phothine, phosphine, phosprlus drifluoride, phoshorus druflurodide, arsinacluside,Bonor trifreeoide, duborne, etc.

ʻO ka maʻamau,ʻo ke kumuʻo ke kumu doping ke kāwiliʻia me kahi kaila lawe kaʻa (e like me ka argon a me ka dugon a me ka nitrogen) ma kahi kahua cobinet kumu. Ma hope o ka hoʻohuiʻana, ua hoʻomau mauʻia ka kahe o ka hau i ka fernace a puni i ka wafer, a laila e hoʻohiolo ana i nā mea hana ma luna o ka papa.

EtgianʻO ke kāwiliʻana

Etching e like me etch i ka papa hana hana (e like me ke kiʻiʻoniʻoni, etc.

Hoʻokomoʻia nāʻano etching e hoʻopili i ka etchical etching a me ka maloʻo maloʻo etching. Ua kapaʻia keʻano o ke kino ma ka maloʻo maloʻo etching etching Gasching.

ʻO ka hau e hoʻohālikelikeʻia ai ka hau uila (hamide), e like meKekuhiʻo Carbon Attrafluoride, Nitrogen Trifluoride, trifluorthhane, tucluorthtane, hexaflutoroethane, a me nā mea hana, etc.